Patentrecht

von Christian Osterrieth


ISBN-13: 978-3-406-74614-7
Schriftenreihe: NJW-Praxis
Erscheinungsjahr: 2021
Verlag: C.H. Beck Verlag
Ausgabe: 6. überarbeitete Auflage 2021
Umfang / Format: 344 Seiten, Kartoniert
Medium: Buch

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Beschreibung

Praxisnahe Einführung in das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht

Diese praxisnahe Einführung stellt das Patent- und Gebrauchsmusterrecht mit den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar. Der Band behandelt auch u.a.:

  • Grundzüge des internationalen Patentrechts und Euro­päischen Patentsystems
  • Gegenstand, Voraussetzungen und Wirkung des Patentschutzes
  • Patentverletzungsprozess
  • Patentstreitverfahren vor dem Einheitlichen Patentgericht
  • Arbeitnehmererfindungsrecht
  • Gebrauchsmusterrecht

Der Anhang enthält u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften einschließlich Merkmalsanalyse.

Die Neuauflage bringt das Werk insgesamt auf den Stand Frühjahr 2021 in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur. Berücksichtigt wird dabei u.a. das EU-Abkommen zum Einheitlichen ­Patentgericht (UPC), das infolge der Ratifizierung auch durch die Bundesrepublik bald in Kraft gesetzt sein und das europäische Patentsystem maßgeblich reformieren wird. Außerdem wird der aktuelle Stand des geplanten Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts dargestellt.

Artikelnummern

Diesem Produkt sind folgende ISBN bzw. Artikelnummern zugeordnet:

ISBN-13: 978-3-406-74614-7
978-3406746147
EAN-13: 9783406746147