Patentgesetz: PatG-Kommentar

Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz

von Georg Benkard (Hrsg.)


ISBN-13: 978-3-406-72789-4
Schriftenreihe: Becksche Kurz-Kommentare; Band 4
Erscheinungsjahr: 2023
Verlag: C.H. Beck Verlag
Ausgabe: 12. neu bearbeitete Auflage 2023
Umfang / Format: 2.501 Seiten, Hardcover (in Leinen)
Medium: Buch

Sofort lieferbar

239,00 €
inkl. MwSt. zzgl. Versand

Beschreibung

Dieser Klassiker ist der führende Kommentar zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht. In die Tiefe gehende und zugleich praxisorientierte Erläuterungen zeichnen den "Benkard" ebenso aus wie seine traditionelle Nähe zur Rechtsprechung des BGH.

Das Werk bietet ein Autorenteam – überwiegend bestehend aus Richterinnen und Richtern, die vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt haben. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenzierendes und rechtsprechungsorientiertes Bild des geltenden Rechts- und Meinungsstandes.

Die 12. Auflage berücksichtigt u.a. aktuelle Fragen zur Lizenzierung standard­essenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG). Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

Artikelnummern

Diesem Produkt sind folgende ISBN bzw. Artikelnummern zugeordnet:

ISBN-13: 978-3-406-72789-4
978-3406727894
EAN-13: 9783406727894